多晶硅的生产工艺中都需要大量全自动过滤分离器

来源: 铭源凯德过滤设备（北京）有限公司

多晶硅的生产工艺中都需要大量全自动过滤分离器

多晶硅是单质硅的*种形态。常温下不活泼，高温下与氧、氮、硫等反应。高温熔融状态下，具有较大的化学活泼性，能与几乎任何材料作用，主要应用于太阳电池。
电子行业广泛用于制造半导体收音机、录音机、电冰箱、彩电、录像机、电子计算机等的基础材料。由干燥硅粉与干燥氯化氢气体在*定条件下氯化，再经冷凝、精馏、还原而得。
多晶硅的生产技术主要为改良西门子法和硅烷法。不管是改良西门子法还是硅烷法生产工艺中都需要大量过滤分离器。
结合诸多项目经验，铭源凯德提出了自己的过滤工艺解决方案。
1、污染物及杂质
多晶硅具有半导体性质，是*为重要的优良半导体材料，但微量的杂质即可大大影响其导电性。
未完全反应的硅粉、颗粒循环液带入的管道中的杂质、进料带入的固体粉尘与杂质、合成反应生成的固体杂质……这些颗粒的存在是影响生产稳定、换热效率的重要原因。
高效的过滤与分离装置不仅保护了生产设备的工艺安全，同时也提升了产品产量。

2、高温尾气净化
尾气过滤应用在多晶硅生产的各个工艺段，对多晶硅的生产起到重要作用，尤其目前行业低位运行期间，对多晶硅产品降低成本至关重要。
在SiCl4氢化气和SiHCl3还原气通过干法分离后，H2和HCl得以回收利用，在H2回用前需过滤气体中含有的未反应硅粉和生成的石墨粉，保证氢气纯净，使氢化反应和还原反应更稳定、高效。
高危气体氢气 
要求：过滤器密封性能良好。
方案：采用自动反吹系统，无须打开滤器，减少内件更换频次，避免泄露可能。
石墨粉/硅粉颗粒
要求：过滤精度要求高，防止内件穿透。
方案：采用独特的烧结金属毡内件，过滤孔径稳定，保证过滤性能,过滤精度可达0.1um-0.5um。
高温尾气
要求：抗温要求高。避免降温处理带来的*系列问题。
方案：铭源采用高温直接处理工艺，避免降温处理带来管道腐蚀，能耗浪费严重的问题。
3、废气废液处理
多晶硅生产过程中会产生氯气、氢气、三氯氢硅、氯化氢等废气，及废液。废气废液处理*直是困扰企业的难题之*。传统的喷淋处理工艺，处理成本高，浪费严重，环保问题严峻。
铭源采用干法分离技术，将废气废液在炉内燃烧，生成SiO2粉末，通过分离收集SiO2粉末产生*大的经济效益。同时解决环保达标排放问题。
工艺优势
1、废气废液集中处理，工艺流程短，操作简单。
2、回收的SiO2粉末产生*大的经济效益。
3、气体经燃烧后，符合环保要求，可直接放空处理，经济环保。